定制金屬掩膜板，卓力達公司長期供應高精度金屬掩膜板，不銹鋼掩膜板，價格實惠，量大從優(yōu)。

產品可以應用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等設備中，用來制備太陽能電池，光電探測器，LED，激光器，場效應晶體管等各種器件電極及各種薄膜材料圖形設計。
我們已與北京大學，清華大學，中科院蘇州納米所，中科院深圳先進院，蘭州物化的，合肥物質所，武漢大學，華中科技大學，中科院昆明植物研究所，北京航空航天大學，山東大學，浙江大學，吉林大學，華南理工，中山大學，東南大學，蘇州大學，太原理工大學等國內眾多的高校和科研院所以及高技術企業(yè)形成了長期合作關系，積累了豐富的設計和制備經驗，具備諸多優(yōu)勢。
卓力達公司的掩膜板制備工藝主要采用曝光腐蝕工藝（與光刻法在硅表面制備高精度的圖案類似），這種方法可以根據(jù)客戶要求靈活設計各種圖案，且制備出來的圖案尺寸標準。我們的圖案尺寸精度可以達到0.01mm以上，邊緣銳利無毛刺，開孔直線度好，真圓度好。

在材質的選取方面，我們選用高韌性的SUS304 H不銹鋼材料，這樣做出來的掩膜板不但精度高，而且表面光滑，產品不易受彎折而變形，經久耐用，同時還能夠讓掩膜板與器件保持很緊密的貼合，減少陰影效果。
我們所采用的不銹鋼厚度包括0.03mm,0.05mm,0.06mm,0.08mm到1 mm的各種尺寸，采用較薄的不銹鋼制備出來的掩膜板所產生的陰影效果會更少,擾度更可控。
本公司承接各種圖案定制，客戶最好能提供包含尺寸的CAD版設計圖。如果畫圖實在有困難，我們可以根據(jù)客戶描述來繪制，同時我們還能對客戶的掩模板設計提供一些建議。
下面先舉幾個定制金屬掩膜板的實例，后面再解釋幾個定制金屬掩膜板的設計技巧。
如下圖所示是各種圖案實例。

上圖為各種圖形的實例，實際上可做的圖形圖案種類更多

如下圖所示是各種柵線電極圖案及其對應的設計圖，圖中掩膜板尺寸為9cm*9cm,柵線最小尺寸為0.1mm。

上圖為設計的掩膜板的尺寸圖，其中對縫隙的要求比較高，不可以在縫隙中產品毛剌，凸點，缺口，否則會對掩膜板圖形產生擾度

下面圖為對應的圖紙加的實物圖片

以下為各種的掩膜板圖紙和實物相應的對照圖，即用我們的蝕刻工藝，可以最大程度的節(jié)省成本，完成掩模板的制作。

以上為掩模板實物對比圖二，下面增加另一種圖案對比

以下為其它掩膜產品圖片

上圖是掩膜+固定夾具的設計，防止掩膜移動。

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